Материал: Sb000537

Внимание! Если размещение файла нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам

Cписок литературы

1.Сушков А. Д. Вакуумная электроника. СПб.: Изд-во «Лань», 2004.

2.Силаев С. А., Шануренко А. К. Проектирование мощных электронных приборов с электростатическим управлением: учеб. пособие / СПбГЭТУ

«ЛЭТИ». СПб., 1999.

3.Антонов С. В., Шануренко А. К. Проектирование вакуумных и плазменных приборов и устройств. СПб.: СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2004.

4.Рыкалин Н. В., Зуев И. В., Углов А. А. Основы электронно-лучевой обработки материалов. М.: Машиностроение, 1978.

5.Молоковский С. И., Сушков А. Д. Интенсивные электронные и ионные пучки. 2-е изд., перераб. и доп. М.: Энергоатомиздат, 1991.

6.Прилуцкий В. С., Шануренко А. К. Особенности физических процессов

вкатодах мощных электронных приборов с электростатическим управлением: учеб. пособие / СПбГЭТУ «ЛЭТИ». СПб., 1998.

7.Прилуцкий В. С. Вольфрамовый торированный карбидированный катод. М.: Руда и металлы, 2001.

46

Оглавление

 

Введение...................................................................................................................

3

1. Системы формирования потоков заряженных частиц

 

вакуумных и плазменных приборов и устройств ............................................

3

1.1. Системы формирования электронных потоков

 

в электронных лампах ..........................................................................

4

1.2. Системы формирования сфокусированных электронных

 

потоков....................................................................................................

5

1.3. Системы формирования потоков заряженных частиц

 

в плазменных приборах и устройствах..............................................

12

2. Обобщенные методы расчета систем формирования потоков

 

заряженных частиц вакуумных и плазменных приборов и устройств........

13

3. Расчет систем формирования электронных потоков

 

в электронных лампах.......................................................................................

17

3.1. Расчет катода ........................................................................................

18

3.1.1. Расчет вольфрамового торированного

 

карбидированного катода......................................................

19

3.1.2. Расчет ВТКК решетчатого типа при задании диаметра

 

нити катода и шага решетки .................................................

22

3.1.3. Расчет подогревного оксидного катода ...............................

23

3.2. Расчет геометрических размеров системы электродов....................

24

3.2.1. Расчет межэлектродных расстояний ....................................

24

3.2.2. Расчет сеточной структуры ...................................................

25

3.2.3. Расчет второй сетки лучевого тетрода.................................

27

4. Расчет систем формирования слаботочных электронных потоков .............

30

5. Расчет систем формирования сильноточных (интенсивных)

 

электронных потоков........................................................................................

35

6. Расчет систем формирования потоков заряженных частиц

 

в плазменных приборах и устройствах...........................................................

41

Список литературы ...............................................................................................

45

47

Антонов Сергей Владиславович, Синев Александр Евгеньевич, Шануренко Александр Константинович

Проектирование вакуумных и плазменных приборов и устройств

Электронное учебное пособие

2-е издание, переработанное

Редактор Н. В. Лукина

–––––––––––––––––––––––––––––––––––––––––––––––––––

–––––––

Подписано в печать 29.12.14. Формат 60×84 1/16. Бумага офсетная. Печать цифровая. Печ. л. 3,0.

Гарнитура «Times New Roman». Тираж 10 экз. Заказ 246.

–––––––––––––––––––––––––––––––––––––––––––––––––––

–––––––

Издательство СПбГЭТУ «ЛЭТИ» 197376, С.-Петербург, ул. Проф. Попова, 5

48

Источник: https://studfile.net/preview/16438692/